平板產業(yè)受到工藝技術和設備的制約，特別是TFT的工藝制程與集成電路相當，潔凈技術尤為重要。記者從“2009中國(無錫)潔凈工程高峰論壇”上了解到，隨著集成電路制造技術的不斷升級，大部分國家主流廠商已經進入納米時代，制造集成電路所需的潔凈廠房的設計建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升，為先進工藝產品的生產提供保障。在平板顯示領域，TFT-LCD第6代到第8代生產線已經成為主流，在數萬平方米的潔凈廠房內實現自動化生產，也對潔凈室的設計建造技術提出新的要求。今年7月1日，國家標準《電子工業(yè) 潔 凈 廠 房 設 計 規(guī) 范 》(GB50472)正式實施，這是我國專門針對電子工業(yè)領域的潔凈廠房設計推出的靠前個國家標準，它將幫助企業(yè)優(yōu)化潔凈室的設計與建造。

　　在本次高峰論壇上，來自國內優(yōu)異的潔凈室設計建造企業(yè)和集成電路、平板顯示器制造企業(yè)的相關人士向與會各界人士介紹了潔凈室領域的較新技術與成功案例。

　　據國家標準《電子工業(yè)潔凈廠廠房設計規(guī)范》主編陳霖新介紹，45nm非常大規(guī)模集成電路生產要求控制潔凈室的空氣潔凈度為ISO1級或2級，控制微粒粒徑為0.03μm。隨著集成度的不斷提高，加工尺寸日益微細化，這不僅要求達到十分嚴格的空氣潔凈度等級標準，而且要確保在整個產品生產過程中，微粒不黏附在芯片上、芯片不受化學污染物的污染、芯片表面不受損傷。

　　“電子潔凈廠房的施工特點是造價貴、工期短、品質要求高、復雜度和整合度高。”中國電子系統工程公司第二建設有限公司總工程師施紅平在演講中表示，“對于潔凈廠房的施工而言，必須克服高空作業(yè)、大面積精度控制和全過程潔凈施工控制等難題。”

　　中芯全部上海廠務處資歷豐富經理陳玉峰則強調：“氣態(tài)分子級污染物(AMC)是危害生產工藝并導致成品率降低的分子態(tài)化學物質，會在半導體制造多個關鍵工藝上造成各種危害，影響產品質量。隨著半導體制造技術的發(fā)展，對AMC的控制將越來越嚴格。而單一的采用化學過濾器去除AMC的控制方法受許多條件的限制，并且會大幅提高運行成本。因此應該從設計選址、設備選型、改進工藝流程等多方面進行考慮。”