低輻射玻璃根據(jù)生產(chǎn)工藝不同分為在線CVD技術(shù)與離線真空磁控濺射技術(shù)。
    離線真空磁控濺射工藝，是在玻璃表面鍍上具有低輻射作用的金屬銀功能膜，兩側(cè)必須加上多層介質(zhì)膜作為保護(hù)和過(guò)渡膜層，膜層與玻璃通過(guò)物理鍵結(jié)合。
    這種“軟鍍膜”產(chǎn)品有下列局限：膜層容易受到劃傷或損壞；由于銀較易氧化，膜層在接觸到空氣后會(huì)退化，因而其壽命有限；在短時(shí)間內(nèi)必須將鍍膜后的玻璃合成中空；如進(jìn)行鋼化等深加工時(shí)一般在鍍膜之前完成。
    在線LOW-E采用具有較有優(yōu)勢(shì)水平的在線CVD技術(shù)，在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中，當(dāng)玻璃處于近700℃高溫時(shí)，在表面上鍍上半導(dǎo)體金屬氧化物，膜層同玻璃通過(guò)化學(xué)鍵結(jié)合，成為玻璃表面的一部分。因而具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。
    這種“硬鍍膜”產(chǎn)品具有如下特性：可單片使用；膜層牢固，耐用，實(shí)現(xiàn)較久節(jié)能；在合成中空時(shí)無(wú)需除去邊部膜層，可像普通浮法玻璃一樣進(jìn)行熱彎、鋼化等深加工和儲(chǔ)存。