按照現(xiàn)行國家標準規(guī)定，采用磁控濺射法生產(chǎn)的Low-E鍍膜玻璃輻射率e應小于0.15。目前市場上單銀Low-E鍍膜玻璃的e在0.07~0.12，而雙銀Low-E鍍膜玻璃的輻射率e則能夠控制在0.05以下。Low-E鍍膜玻璃的輻射率e與膜層材料的電導率s有如下關(guān)系：

　　從上面關(guān)系式中，可以看出膜層材料的輻射率與膜層電導率成反比關(guān)系，即膜層電導率越高，膜層的輻射率就越低；而膜層的電導率又主要取決于膜層中功能層金屬材料的類別和厚度。雙銀Low-E鍍膜玻璃因鍍了2層Ag，且Ag的總厚度要厚于普通單銀，使膜層有了更高的電導率、更低的輻射率；同時，因為使用了2層Ag，使得雙銀膜系結(jié)構(gòu)變得更為復雜，在開發(fā)雙銀膜系時，合理布置膜層結(jié)構(gòu)變得非常關(guān)鍵。正是因為雙銀膜系的膜層數(shù)量多，并且各個膜層對鍍膜玻璃的玻璃面顏色、膜面顏色、可見光透過率及顏色影響程度不同，所以，為了使較終產(chǎn)品具有穩(wěn)定的性能和生產(chǎn)重復性，開發(fā)雙銀膜系的過程，一定要對各個單層的厚度和均勻性足夠重視。

　　從圖1中，可以看到1套雙銀膜系包括了9個功能結(jié)構(gòu)層在內(nèi)的9層至10多層膜層。不同功能結(jié)構(gòu)層可選用的材料不同，例如，介質(zhì)層可以選用：SiNx、TiOx、ZnSnOx、SnOx、AZO、ZnAlOx等，保護層可以選擇NiCr及其氧化物、Cr、Ti及其氧化物等。在多種膜層材料中，也可以選擇一種材料和其它幾種材料的組合。所以，如何選擇每個功能結(jié)構(gòu)層的材料至關(guān)重要，涉及諸多選擇因素，如：材料的折射率、密度、硬度，對可見光、紅外線的選擇吸收性、反射性，材料的膨脹系數(shù)，材料的導電性，不同材料的附著力等。
　　
　　2.3開發(fā)流程
　　
　　雙銀Low-E膜系的開發(fā)過程是一個很系統(tǒng)的過程，這個過程的每個階段有不同的工作要點，每個階段要注意一些原始數(shù)據(jù)的記錄積累和分析，逐步建立起適合于生產(chǎn)體系的數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)，在需要做生產(chǎn)工藝調(diào)整和變動過程中，關(guān)注關(guān)鍵參數(shù)的變化趨勢及其規(guī)律性，才能形成生產(chǎn)規(guī)范并有效指導穩(wěn)定生產(chǎn)，只有實現(xiàn)穩(wěn)定生產(chǎn)，才能有穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量，實現(xiàn)提升產(chǎn)品成品率和降低成本的目標。另外，完整的開發(fā)過程不僅包括所開發(fā)膜系產(chǎn)品的實現(xiàn)，還應包括為幕墻公司和下游玻璃深加工企業(yè)提供必要的應用參數(shù)和后續(xù)加工指導。下游玻璃深加工廠是雙銀Low-E鍍膜玻璃產(chǎn)品的直接使用者，雙銀Low-E鍍膜玻璃的可加工性將在這些工廠里得到檢驗。因此，在開發(fā)雙銀Low-E產(chǎn)品的過程中，要不斷模擬和驗證所開發(fā)的雙銀Low-E鍍膜玻璃在切割、磨邊、鋼化、廠房環(huán)境暴露等情況下，自身的保護層所提供的保護性是否可靠。據(jù)筆者經(jīng)驗和已有數(shù)據(jù)分析認為：介質(zhì)保護層厚度和金屬保護層厚度的配比對雙銀Low-E的可加工性有明顯的影響。具體開發(fā)流程詳見圖2。

　　針對圖2中的流程，應注意以下問題：
　　
　　（1）明確目標參數(shù)。目標參數(shù)包括雙銀Low-E鍍膜玻璃的可見光透過率T、透過顏色at、bt，玻面反射率Rg、玻面顏色ag、bg，膜面反射率Rf、膜面顏色af、bf，膜層面電阻，電導率，玻璃面色差DE。一般情況下，DT±1％、DRg±1％、Dag±0.8％、Dbg±0.8％、Dat±0.8％、Dbt±0.8％。雙銀Low-E鍍膜玻璃的非膜面色差DE要滿足現(xiàn)行國家標準規(guī)定。